이온화된 스퍼터링 기술으로 나노입자, 다공성 박막, 조밀한 박막을 만들어 물 전해조와 연료전지에 사용했습니다. 높은 전력 펄스 자성 스퍼터링(HiPIMS)으로 고성능 촉매층을 효율적으로 제작할 수 있습니다.
HiPIMS 기술을 사용하여 연료전지 전해조 양극의 티타늄과 스테인리스강 부품에 초박막 백금 코팅을 만들었습니다. HiPIMS로 만든 코팅은 더 밀도가 높고 결함이 적어서 전기 전도성을 크게 향상시킵니다. 이는 차세대 연료전지 기술의 비용 절감과 성능 개선에 기여할 수 있습니다.
금속-이온 동기화 고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링(MIS-HiPIMS)으로 높은 결정성의 AlScN 박막을 낮은 온도에서 제작했습니다. 5G/6G MEMS 응용을 위한 압전 재료로 우수한 성능을 보여줍니다. 원하는 응력 상태와 구조를 조절할 수 있어 고급 RF 필터 제작에 활용 가능합니다.
롤-투-롤 고전력 펄스 스퍼터링으로 온도 변화에 따라 빛을 조절하는 VO2 스마트 윈도우 코팅을 대규모로 제조했습니다. 건물의 에너지 절감에 활용될 수 있습니다.
HiPIMS를 이용한 텅스텐/탄화규소 초미세 다층 거울이 기존 방법보다 훨씬 부드러운 표면을 가지게 되어 X선 반사율이 63%에서 79%로 크게 향상되었습니다. 이는 X선 과학 응용에 매우 중요한 기술 발전입니다.
플라즈마 질화와 텅스텐 붕화물 나노복합 코팅을 결합한 하이브리드 표면처리로 단조 공구의 수명을 80% 연장했습니다. HiPIMS로 증착한 W-Ti-B와 W-Ta-B 코팅은 초경도와 우수한 산화 내성을 보였습니다. 실제 산업 적용을 통해 효과를 입증했습니다.
RF와 HiPIMS로 탄탈륨 도핑 텅스텐 보라이드 세라믹 코팅을 제조하여 경도 41 GPa 이상을 달성했습니다. HiPIMS는 더 낮은 기판 온도에서 결정성 코팅을 만들 수 있습니다.
DLC 코팅에 항균성을 가진 은을 섞어서 만들고, 마모 방지와 함께 박테리아를 죽이는 기능을 동시에 갖도록 했습니다. 의료용 임플란트 같은 생체재료에 쓸 수 있습니다.
양극성 펄스 고전력 임펄스 자기장 스퍼터링 방식에서 이온을 가속하는 '이중층' 구조를 연구했습니다. 이 구조가 어떻게 형성되고 이온의 에너지를 조절할 수 있는지 보여줍니다.
이 연구는 티타늄을 아르곤과 질소 혼합 가스 속에서 스퍼터링할 때 일어나는 현상을 컴퓨터 모델로 분석했습니다. 방전 전류의 변화가 금속 이온화 정도에 어떻게 영향을 주는지 알아보았습니다. 아르곤이 많을 때와 질소가 많을 때 전류가 커지는 원리가 서로 다르다는 것을 발견했습니다.
이 논문은 크롬(Cr) 타겟을 사용해 고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링 공정을 연구했습니다. 전류 세기와 펄스 길이를 바꾸면 증착 속도와 이온화된 크롬 입자의 비율이 어떻게 변하는지 실험과 모델링으로 분석했습니다. 그 결과, 짧은 펄스와 높은 전류에서 이온화 비율이 높아지고, 특정 펄스 길이(50마이크로초)에서 증착 속도가 가장 좋다는 것을 알아냈습니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링에서 세 가지 금속(티타늄, 크롬, 알루미늄)의 이온화 과정을 비교했습니다. 각 금속마다 전자 온도와 스퍼터 수율의 차이로 인해 이온화 위치가 달라집니다.
고출력 임펄스 마그네틱 스퍼터링 중 음극 전압 반전 시 빠른 전자의 동작을 랑뮤어 탐침으로 측정했습니다. 전자 온도와 밀도의 변화를 통해 스퍼터링 과정을 최적화할 수 있는 방법을 제시했습니다.
HiPIMS에서 원자와 이온의 이동을 컴퓨터 시뮬레이션으로 분석했습니다. 플라즈마 전위 분포가 이온화된 물질 흐름에 매우 중요한 영향을 미친다는 것을 보였습니다.
고속 카메라로 HiPIMS 펄스 중 플라즈마의 스포크 동역학을 3단계로 분석했습니다. 방전 전류와 압력에 따라 플라즈마가 서로 다른 패턴으로 진화함을 보였습니다.
HiPIMS 플라즈마에서 스퍼터링된 입자들이 목표물에서 수집 표면까지 어떻게 이동하는지 연구했습니다. 전자 홀 전류가 이온에 미치는 힘으로 인해 방위각 방향으로 이동이 발생함을 발견했습니다. 이 연구는 스퍼터링 공정의 입자 수송 메커니즘을 이해하는 데 도움이 됩니다.
다중 펄스 HiPIMS 방전에서 중성 원자와 이온화된 원자의 거동을 연구했습니다. 레이저 유도 형광으로 플라즈마 밀도를 시간 분해 측정했습니다.
이극 HiPIMS 플라즈마에서 파이어볼 현상을 발견했습니다. 레이저 톰슨 산란으로 역방향 방전 중 전자 가열을 측정했습니다.
향상된 HiPIMS (e-HiPIMS) 기술로 플라즈마 이온화와 여기 효율을 증진했습니다. 맞춤형 펄스 에너지로 특정 반응을 선택적으로 강화할 수 있습니다.
이극 HiPIMS의 긴 양의 전압 펄스 중 역방향 방전 생성 메커니즘을 연구했습니다. Langmuir 프로브로 플라즈마 특성을 시간 분해 측정했습니다.
HiPIMS 플라즈마에서 이온들이 자기장 때문에 아지무탈(방위각) 방향으로 움직이는 현상을 측정하고 분석했습니다. 전자와 이온 간 쿨롱 충돌이 이 움직임의 주요 원인임을 규명했습니다.
HiPIMS의 단극, 양극, 펄스 분할 등 다양한 펄스 구성이 절연 표면으로의 에너지 전달에 미치는 영향을 연구했습니다. 표면 용량에 따른 최적 구성을 제시합니다.
HiPIMS 방전에서 나타나는 '스포크'라는 현상을 여러 금속 타겟으로 비교 분석했습니다. 광학 분석 기술을 사용하여 스포크의 크기, 길이, 이동 속도 등 특성을 파악했습니다. 이는 HiPIMS 공정 이해도를 높입니다.
다중 펄스 HiPIMS 공정에서 중성 및 이온화 입자의 밀도와 플럭스 변화를 조사했습니다. 일반 DC 마그네트론보다 높은 증착률을 달성합니다.
짧은 펄스의 고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링에서 이온 전류 밀도를 측정하고 분석했습니다. 펄스 시간이 짧아질수록 이온 전류 밀도가 2~7배 증가하는 현상을 발견했습니다. 이는 펄스 후 플라즈마 확산 효과 때문인 것으로 이론적으로 설명되었습니다.
구리 HiPIMS 방전에서 펄스 길이, 가스 압력, 방전 전류 밀도가 증착률과 이온화 플럭스 분율에 미치는 영향을 실험적으로 조사했습니다. 낮은 가스 압력이 이온화 효율을 크게 향상시킵니다.
이극 HiPIMS에서 구리 타겟의 플라즈마 방출을 시간과 공간 해상도로 연구했습니다. 스퍼터링 기술을 더 잘 이해하기 위한 기초 연구입니다.
양극성 펄스 고전력 임펄스 자기장 스퍼터링 방식에서 플라즈마가 어떻게 냉각되고 사라지는지 연구했습니다. 전자와 이온의 움직임을 시간과 공간에 따라 상세히 분석했습니다.
고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링에서 작업 가스 희박화 현상을 연구했습니다. 전자 충돌 이온화와 스퍼터된 원자의 충격에 의한 희박화 메커니즘을 규명했으며, 타겟 재료에 따라 그 상대적 중요도가 다름을 보였습니다.
고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링의 이온화 영역 모델(IRM)을 W 타겟 실험 결과와 비교 검증했습니다. 전자 밀도, 전자 온도, 입자 밀도의 시간적 변화를 분석했습니다.
HIPIMS 방전에서 전자의 온도가 목표 물질에 따라 자동으로 조절되는 현상을 발견했습니다. 이는 금속 이온이 얼마나 잘 방출되는지에 영향을 줍니다.
매우 높은 전력의 펄스 자기 스퍼터링을 helium으로 오래 유지하는 실험을 했습니다. 보통의 호 방전처럼 보이지만 안정적인 글로우 방전을 유지할 수 있었습니다.
이 논문은 아주 낮은 온도(70도)에서 실리콘 박막을 만드는 새로운 스퍼터링 기술을 소개합니다. 이렇게 만든 실리콘 막은 빛을 잘 전달하는 성질이 좋아서 광통신 칩 만들기에 유용합니다. 낮은 온도에서 만들 수 있어서 다른 부품과 함께 붙이기도 쉬워집니다.
이 연구는 고출력 펄스 스퍼터링 기술로 산화주석(SnO2) 박막을 만들 때, 순간적인 전력 세기를 조절하면 별도의 가열 없이도 결정질 박막을 만들 수 있음을 보여줍니다. 전력을 높일수록 플라즈마 상태가 변하고 박막의 화학적 결합 상태도 달라지는 것을 확인했습니다. 이 기술을 이용해 열에 약한 플라스틱 기판 위에도 투명하고 결정성 좋은 박막을 성공적으로 만들어 유연 전자소자에 활용할 수 있음을 보였습니다.
고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 다이아몬드라이크 카본 막을 만들 때 펄스 폭이 막의 경도와 미세구조에 미치는 영향을 연구했습니다. 이온의 플럭스와 에너지를 측정하여 막의 특성을 조절할 수 있는 방법을 제시했습니다.
고전력 펄스 자기장 스퍼터링의 플라즈마 특성을 시간분해 랑뮤어 프로브로 측정했습니다. 펄스 후 전자밀도의 두 번째 피크가 나타나며 이는 고온 전자의 이온화 때문임을 밝혔습니다.
이 논문은 고출력 펄스 마그네트론 스퍼터링이라는 특별한 코팅 기술을 소개합니다. 이 기술은 절삭 공구에 단단하고 오래가는 코팅막을 만드는데 유용하며, 다른 스퍼터링 기술과 결합하면 성능이 더 좋아진다고 설명합니다. 앞으로 이 기술을 산업에 더 잘 활용하기 위한 방향도 제시합니다.
이 논문은 두 가지 코팅 기술(멀티아크 이온 플레이팅과 고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링)을 함께 사용해서 강철 표면에 티타늄-알루미늄-질소(TiAlN) 코팅막을 만드는 연구입니다. 스퍼터링 비율을 조절하면 코팅 표면이 더 매끄럽고 단단해지며, 마모와 부식에 강해진다는 것을 발견했습니다. 특히 특정 비율(1:2)로 만들었을 때 내구성과 부식 저항성이 가장 좋았습니다.
양극 펄스 고전력 임펄스 자기 스퍼터링의 플라즈마 특성을 랑무어 프로브로 측정했습니다. 양의 전압 역전이 플라즈마 밀도를 유지하고 이온 에너지를 조절할 수 있음을 보였습니다.
고출력 펄스 반응성 스퍼터링으로 탈륨 산화물 박막을 증착하여 극저온부터 실온까지 온도 센서로 사용할 수 있음을 보였습니다. 20-320 K 범위에서 선형적인 저항-온도 특성을 나타냅니다.
이 논문은 알루미늄 산화막(알루미나)을 만들 때 생기는 불안정한 현상을 해결하는 새로운 스퍼터링 기술을 소개합니다. 액체 상태의 알루미늄 타겟과 고출력 임펄스 방식을 사용해서 더 빠르고 안정적으로 얇은 막을 입힐 수 있게 했습니다. 이 기술은 코팅 산업에서 더 효율적인 박막 제작에 도움을 줄 수 있습니다.
HiPIMS로 증착한 고유전율 HfO2를 산화물 박막 트랜지스터의 게이트 절연막으로 사용하여 매우 낮은 서브임계 스윙을 달성했습니다.
의료용 티타늄 코팅을 HiPIMS 방식으로 만들어 부식 저항성과 기계적 성질을 개선했습니다. 생체 임플란트의 내구성을 높이기 위한 연구입니다.
반응성 HiPIMS로 TiAlCN 코팅을 증착할 때 탄소 함량에 따른 미세구조와 성능 변화를 연구했습니다. 탄소 함량 조절로 경도와 내부식성을 최적화할 수 있습니다.
반응성 HiPIMS를 사용하여 매우 낮은 저항성을 가진 질소 도핑된 p형 Cu2O 박막을 제작했습니다. 이 박막은 투명 전도성 재료로 사용될 수 있습니다.
HiPIMS로 제조한 TiOx의 화학량론 조성이 광학 및 전기색변 특성에 미치는 영향을 연구합니다. 최적 조성을 찾아 성능을 극대화합니다.
휘는 구리 박막 라미네이트에서 HiPIMS로 중간층을 설계하여 층들의 접착력을 강하게 만들었습니다.
반응성 HiPIMS로 제작한 CrNx 코팅에서 플라즈마 진단을 수행하고 질소 함유 메커니즘을 분석했습니다.
산업용 HiPIMS로 TiBx 코팅을 제조할 때 방전 특성이 조성, 응력, 특성에 미치는 영향을 조사했습니다.
이 논문은 액체 상태의 알루미늄 타겟을 이용해 산화알루미늄(Al2O3) 얇은 막을 만드는 새로운 스퍼터링 방법을 연구했습니다. 고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링이라는 특수한 기술을 사용해서 방전 특성을 분석했습니다. 이를 통해 더 좋은 품질의 산화알루미늄 막을 만드는 방법을 찾으려고 했습니다.
양극성 고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링을 사용하여 알파상 탄탈룸 박막을 만드는 새로운 방법을 개발했습니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 증착한 Ti1-xAlxN에서 이온과 온도에 의해 3차원 나노스케일 패턴이 형성되는 현상을 연구했습니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 펄스폭을 조절하여 Cr 코팅의 기계적 특성과 고온 수증기 산화 저항성을 향상시켰습니다.
이 논문은 특수한 스퍼터링 기술(HiPIMS)로 만든 CrAlN이라는 단단한 코팅막의 성질을 연구했습니다. 단일층과 여러 층을 겹친 다층 구조 두 가지를 비교해서 어떤 것이 더 단단하고 마모에 강한지 살펴봤습니다. 이런 코팅은 기계 부품이 오래 사용해도 잘 닳지 않도록 도와주는 역할을 합니다.
고출력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 만든 Ti-Al-N 박막의 응력 변화를 실시간으로 측정하면서 기판 편향 전압과 온도의 영향을 조사했습니다.
이 논문은 고출력 임펄스 스퍼터링으로 유리 기판 위에 산화갈륨(β-Ga2O3) 얇은 막을 만드는 방법을 연구했습니다. 막이 만들어지는 원리를 열역학과 성장 속도 경쟁으로 설명하고, 이를 이용해 자외선을 감지하는 센서를 만들었습니다. 티타늄과 알루미늄을 함께 쓴 전극이 순수 알루미늄 전극보다 성능이 더 좋다는 것을 보여줍니다.
고전류 밀도 헬륨 마그네트론 스퍼터링 플라즈마의 특성을 연구했습니다. 자기 스퍼터링 수율이 고전력 임펄스 스퍼터링에서 중요한 역할을 합니다. 전자 밀도는 금속의 존재에 따라 크게 달라집니다.
고출력 펄스 마그네트론 스퍼터링을 이용하여 80°C의 낮은 온도에서 결정질 IGZO 박막을 증착했습니다. 만들어진 IGZO 박막은 투명도와 전기 특성이 우수하여 박막 트랜지스터에 적용할 수 있습니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링에서 스퍼터된 입자들의 공간적 분포와 이온화 정도를 2D로 분석하여 공정 조건에 따른 입자 수송 메커니즘을 규명했습니다. 이는 박막 품질 최적화에 중요한 정보를 제공합니다.
마그네트론 스퍼터링의 세 가지 방식(DC, RF, HiPIMS)으로 알루미늄 코팅을 만들어 고출력 레이저 광학기기에서의 레이저 내손상 임계값을 비교했습니다. HiPIMS와 DC 방식이 RF 방식보다 우수한 성능을 보였습니다.
매우 두꺼운 금과 탄탈 혼합 코팅을 스퍼터링으로 만들었습니다. 타겟이 닳으면서 박막의 구조와 성질이 어떻게 바뀌는지 연구했습니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링에서 금속 이온이 어떻게 빠져나가는지 연구합니다. 박막 제조 공정 최적화에 중요합니다.
HiPIMS로 만든 하프늄 산화질화물 박막을 MOS(금속-산화물-반도체) 구조에 최적화하여 적용하는 연구입니다.
HiPIMS 공정에서 펄스 단위로 분광법과 전기적 특성을 실시간으로 측정하여 플라즈마를 제어합니다. 공정 신뢰성과 재현성을 향상시킵니다.
상수 전류 제어 HiPIMS에서 펄스 길이가 플라스모닉 질화티타늄의 플라즈마 화학과 박막 성장에 미치는 영향을 연구했습니다.
반응성 HiPIMS로 증착한 TiAlCN 코팅에 탄소를 섞었을 때 미세구조, 형태, 기계적 성질, 마찰특성, 내부식성이 어떻게 변하는지 조사했습니다. 이 코팅은 공구나 부품의 마모와 부식을 막는 데 쓰입니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링(HIPIMS)에서 금속 이온화 메커니즘을 이해하고 제어하는 연구입니다. 스퍼터링 공정 기술 발전에 중요합니다.
고성능 펄스 자기스퍼터링과 RF 자기스퍼터링을 결합해서 알루미늄산화질화물과 하프늄산화물 이층막을 만들었습니다. 물 증기가 통과하지 않는 특성이 뛰어나서 유연한 전자기기의 보호 코팅으로 쓸 수 있습니다.
고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 티타늄 박막을 만들고, 전압에 따라 막의 결정 구조, 경도, 내마모성이 어떻게 변하는지 조사했습니다. 전압이 높아질수록 막의 경도는 낮아지고 인성은 높아졌습니다.
텅스텐과 탄탈 이붕화 코팅은 매우 경하면서도 1000도까지 열에 안정적이고 산화에도 잘 견딥니다. 고온 응용에 적합한 코팅입니다.
듀얼 HiPIMS 단파 펄스로 다양한 Al 함량의 TiAlN 코팅을 제조하여 경도, 내마모성, 산화 저항성을 평가했습니다. 높은 Al 함량의 코팅이 고온 안정성이 우수합니다.
BaTiO3 세라믹 위에 DCMS와 HiPIMS 기술로 Cu 박막을 만들었을 때, 박막 두께에 따라 구조와 성질이 어떻게 달라지는지 연구했습니다. HiPIMS로 만든 박막이 더 조밀하고 낮은 저항성을 가지며, 두께 1000nm일 때 가장 좋은 성능을 보였습니다. 이 연구는 원하는 성능의 고품질 박막을 만드는 방법을 제시합니다.
레이저 분말 적층 제조로 만든 기판과 기존 제조 기판에 HiPIMS로 TiAlSiN 코팅을 입히고 성능을 비교했습니다. 적층 제조 기판이 더 우수한 기계적 성질과 코팅 접착력을 보였습니다.
강철 표면에 TiB2 코팅을 HiPIMS로 만들 때 펄스 조건(주파수, 폭)을 바꾸면서 미세구조, 경도, 마찰 성질이 어떻게 달라지는지 연구했습니다. 최적 조건에서 경도 39.7 GPa와 낮은 마찰 계수를 달성했습니다.
HiPIMS를 이용한 반응성 스퍼터링으로 hafnium oxynitride (HfOxNy) 박막을 최적화했습니다. 800°C까지의 열안정성과 전기적 특성을 조사했으며, 표준 펄스 스퍼터링보다 우수한 성능을 보였습니다. 반도체 게이트 유전체 소재로 활용 가능합니다.
HiPIMS의 펄스 폭이 구리 박막의 구조와 전기적 성질에 미치는 영향을 연구했습니다. 긴 펄스 폭은 더 큰 결정립과 낮은 저항성을 보였으며, 200μs 이상에서 미세구조가 입상에서 가지상으로 변합니다. 고품질 구리 박막 제조 공정 최적화에 기여합니다.
HiPIMS의 듀티 사이클(2.25%-5.25%)이 구리 박막의 플라즈마 방전, 미세구조, 전기적 성질에 미치는 영향을 연구했습니다. 4.5% 듀티 사이클에서 최저 저항성(1.7005 μΩ·cm)을 달성했으며, 고품질 구리 박막 제조 조건을 제시합니다.
은산화물과 구리산화물 코팅을 HIPIMS와 DCMS 방법으로 만들어 비교했습니다. HIPIMS로 만든 코팅이 더 단단하고 밀도가 높으며 박테리아를 100% 죽일 수 있는 항균 성능을 보였습니다. 이 코팅들은 방수 성질로 박테리아가 붙기 어렵게 해줍니다.
고에너지 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 비정질 탄소 박막을 만들어 광학 특성을 연구했습니다. 굴절률이 매우 높고 띠틈이 조절 가능하여 광학 응용에 유용합니다.
이 연구는 고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링이라는 특수한 방법으로 티타늄-니오븀-크롬 합금 박막을 만드는 실험입니다. 전력을 세게 하면 금속 이온이 더 많이 기판에 도달하지만, 막의 단단함과 내마모성은 오히려 줄어드는 것을 발견했습니다. 이 결과는 임플란트나 내식성 코팅 재료를 만들 때 전력 조건을 어떻게 조절해야 하는지 알려줍니다.
은이 첨가된 산화바나듐으로 만든 전기색소 소자입니다. 고출력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 제작되어 디스플레이 응용이 가능합니다.
HiPIMS 피크 파워에 따른 TiNbCrZr 고엔트로피 박막의 구조와 성능 변화를 분석했습니다. 공정 조건에 따라 마모 메커니즘이 전환되는 현상을 규명했습니다.
이 논문은 니오븀(Nb)이라는 금속을 구리(Cu) 위에 아주 얇게 입히는 과정을 컴퓨터 시뮬레이션으로 연구했어요. 특별한 스퍼터링 방법(HiPIMS)을 사용해서 원자들이 어떻게 규칙적으로 배열되는지, 두 금속이 만나는 경계면이 어떤 모양인지 알아봤습니다. 이런 연구는 더 좋은 금속 코팅 기술을 만드는 데 도움을 줍니다.
HiPIMS 공정에서 아르곤 흐름률이 TiCN 코팅의 미세구조, 기계적 성질, 마찰 특성에 미치는 영향을 조사했습니다.
고출력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 증착한 Ni₃C 박막을 열처리하여 몇 층의 그래핀을 제조하는 방법을 제시했습니다. 이는 그래핀 합성의 새로운 경로를 제공합니다.
고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 IGZO 박막을 증착하는 연구입니다. 차세대 디스플레이와 박막 트랜지스터 소자 제조에 핵심 기술입니다.
고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링에서 전자 온도를 연구하고, 타겟 소재의 스퍼터링 수율이 미치는 영향을 분석했습니다.
양극성 HiPIMS 기술을 입자 가속기 부품에 박막 코팅을 하는 데 적용하는 방법을 연구했습니다.
고전력 펄스 마그네트론 재스퍼터링으로 구리 캐비티 내부에 초전도 니오비움(Nb) 박막을 증착했습니다. 차세대 입자가속기용 초전도 고주파 캐비티 생산에 중요한 기술입니다.
고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링을 이용한 새로운 질화 공정으로 의료용 CoCrMo 합금의 표면을 개질하여 내마모성과 내부식성을 크게 향상시켰습니다. 금속 이온 방출을 최대 10배 감소시켰습니다.
고출력 펄스형 스퍼터링에서 비스무스 이온의 시간에 따른 변화를 측정했습니다. 비스무스는 2가와 3가 양이온으로 주로 방출되며, 방전 조건에 따라 이온의 에너지와 농도가 크게 달라집니다. 이 결과는 기판에 적절한 전압을 인가하는 방법을 제시합니다.
고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링과 DC 스퍼터링을 결합하여 낮은 온도에서 CrAlN + MoWS 코팅을 증착했습니다. 윤활유 없이 기어 같은 부품의 마찰을 크게 감소시킬 수 있어 우주항공과 자동차 산업에 유용합니다.
다단계 고전력 공급장치를 가진 전자 보강 고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링(e-HiPIMS)을 개발하여, 펄스 파형을 맞춤형으로 조절함으로써 특정 이온 집단을 선택적으로 증가시킬 수 있음을 보였습니다. 이 기술은 크롬 박막 증착 시 전자 밀도를 크게 향상시킵니다.
RF 스퍼터링과 고전력 펄스형 마그네트론 스퍼터링으로 CuFeO2 박막을 제조했습니다. 태양광 촉매를 이용한 물 분해 응용 가능성을 보여주었습니다.
HiPIMS에서 이온이 이온화 영역에서 질량 분석기로 이동하는 과정을 컴퓨터로 모의실험했습니다. 이온의 에너지와 이동 시간을 예측하는 데 도움이 됩니다.
금색 외관의 질화티타늄 코팅을 상온에서 양극 HiPIMS와 니오븀 이온 폭격으로 제조했습니다. 외부 가열 없이 우수한 기계적·마찰특성과 장식성을 갖춘 코팅을 만들 수 있습니다.
HiPIMS로 제조한 CrxNy 코팅에서 질소 함량을 조절하여 내부식성과 내마모성을 최적화했습니다. 육방정 Cr2N이 화학량론적 CrN보다 우수한 부식 보호 성능을 보입니다.
HiPIMS로 다이아몬드 같은 탄소 박막을 만들 때 다양한 탄소 타겟 재료를 사용하여 이온화율과 증착 성능을 비교했습니다. 글래시 탄소 타겟이 아킹은 낮지만 이온화 개선 효과는 제한적임을 발견했습니다.
PECVD-HiPIMS 결합 공정으로 Zn을 포함한 DLC 박막을 직물에 증착했습니다. 우수한 항균성(대장균, 포도상구균, 칸디다에 100% 효과)과 생체적합성을 보였으며, 기계적 성질도 우수합니다. 의료용 항균 섬유 코팅으로 활용 가능합니다.
고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링에서 이온과 원자의 흐름을 분석하여 NbCx 박막의 조성 변화를 이해했습니다. 펄스 전력 밀도가 증가하면 Nb 리치에서 C 리치로의 전환이 일어났습니다. 질량 분석법과 광학 방출 분광법을 통해 이러한 변화의 원인을 규명했습니다.
고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링에서 Ti 이온과 중성 원자의 각도별 분포를 측정했습니다. 일정한 조건에서 심장 모양의 이온화 분포 패턴을 발견했고, 낮은 작업 가스 압력에서 더 높은 이온화 비율을 얻을 수 있음을 확인했습니다.
고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 TiZrNb(V) 고엔트로피 합금 코팅을 제조했습니다. V 농도 증가에 따른 결정 구조 변화, 기계적 특성, 산화 저항성을 분석했고, V 첨가로 부착력이 개선됨을 확인했습니다.
고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링의 Zr 타겟 방전을 실험과 이온화 영역 모델로 연구했습니다. 이온화 확률, 역인력 확률, 작업 가스 희박화 현상을 분석하고 전자 충돌 이온화가 주요 메커니즘임을 확인했습니다.
산화 하프늄 막을 HIPIMS로 만들 때 펄스 폭이 결정화와 강유전성 성질에 미치는 영향을 조사했습니다. 적절한 펄스 폭을 선택하면 메모리 소자에 필요한 강유전성 상을 더 잘 만들 수 있습니다.
HiPIMS와 DCMS로 만든 Cu-W 및 Cu-Cr 이중층 박막의 구조, 형태, 기계적 특성을 비교했습니다. 두께 비율과 스퍼터링 방법이 경도와 전기전도도에 큰 영향을 줍니다.
고전력 펄스형 마그네트론 스퍼터링으로 탄소계 코팅을 만들어 마찰 특성을 연구했습니다. 바이어스 전압을 조절하면 경도와 내마모성을 크게 향상시킬 수 있음을 보였습니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 Cu/W와 Cu/Cr 다층 박막을 만들었습니다. 층을 쌓을수록 경도는 낮아지지만 탄성력은 올라가는 특성을 발견했습니다.
DC와 고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 NiPt 박막을 만든 후 열처리하여 촉매 성능이 우수한 금속간 상을 형성했습니다. 얇은 박막은 벌크보다 빠르게 목표 상이 형성됩니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 질화지르코늄 박막을 제조하여 선박의 부식 방지 코팅으로 평가했습니다. 인공 해수에서 우수한 부식 저항성을 보였습니다.
쌍극성 고전력 임펄스 자기 스퍼터링으로 1마이크론 두께의 질화알루미늄을 증착하고 열전도도를 측정했습니다.
바이폴라 고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 금을 증착할 때 전압, 펄스 길이, 역극성 펄스의 영향을 광학 방출 분광법으로 분석합니다. 높은 전압과 짧은 펄스가 금 증착에 유리함을 보여줍니다.
난연금속 보호를 위해 스퍼터링과 전기불꽃증착을 결합한 기술로 산화 방지 세라믹 코팅을 만들었습니다. 이 방법은 기존 코팅의 문제인 균열을 없애고 더 튼튼한 코팅층을 만듭니다. 몰리브덴 기판에 HfSi2-MoSi2-HfB2 세라믹 복합 코팅을 성공적으로 증착했습니다.
고출력 펄스형 스퍼터링으로 Ti-Al-Ta-N 다원소 코팅을 제작하고 그 미세구조와 기계적 성질을 연구합니다.
고성능 펄스 스퍼터링으로 TiAlSiN 코팅을 만들었습니다. 기판 바이어스 전압이 박막의 구조와 기계적 성질에 영향을 미칩니다.
중주파, 고전력 임펄스 자기 스퍼터링 등 다양한 펄스 방식으로 Al2O3 박막을 만들어 특성을 비교했습니다. 스퍼터링 방법에 따라 박막의 특성이 크게 달라집니다.
반응성 고전력 펄스 자기장 스퍼터링을 이용하여 에틴/아르곤 분위기에서 C-Cr-Zr 박막을 증착했습니다. 펄스 매개변수가 박막의 특성에 미치는 영향을 연구했습니다.
고전력 펄스 자기 스퍼터링으로 무색 폴리이미드 위에 구리 박막을 증착하고 접착 특성을 조사했습니다.
TiBx 코팅을 여러 방전 모드(dcMS, mfMS, HiPIMS, 아크 혼합모드)로 만들어 성능을 비교한 연구입니다.
표준 HiPIMS와 양극성 HiPIMS로 증착한 크롬 코팅을 원자력 발전소 환경에서의 성능을 비교합니다. 핵심 응용 분야에 적합한 코팅 개발을 목표로 합니다.
HiPIMS로 텅스텐 박막을 만들 때 자기장과 바이어스 구성이 미치는 영향을 연구했습니다. 이는 금속 박막 품질 개선을 위한 공정 최적화에 도움이 됩니다.
HiPIMS 공정에서 아르곤 이온과 금속 이온의 흐름을 정밀하게 측정하는 방법을 개발했습니다. 이는 박막 증착 공정을 더 잘 이해하고 제어하는 데 도움이 됩니다.
양극 HiPIMS에서 펄스 길이를 선택하여 고경도의 매끄러운 비정질 탄소 박막을 빠른 속도로 증착했습니다. 공정 매개변수 최적화로 품질 향상을 달성했습니다.
HiPIMS 동기화 기판 바이어스의 지연 시간이 TiN과 CrN 코팅의 특성에 미치는 영향을 연구했습니다. 공정 최적화 방법을 제시합니다.
산업용 HiPIMS의 다양한 물리 과정을 전역 플라즈마 모델링으로 분석하여, 공정 최적화를 위한 민감도 분석을 수행했습니다.
여러 금속이 섞여 있는 AlCrTiZrWN 코팅을 만들어서 박테리아를 죽이는 성질을 연구했습니다. 질소 가스 비율을 조절하면서 미세구조와 항균성이 어떻게 변하는지 살펴봤습니다.
기계학습을 써서 HiPIMS로 만든 코팅의 기계적 성질을 미리 예측하는 모델을 만들었습니다. 이는 코팅 공정을 더 효율적으로 설계하는 데 도움됩니다.
마이크로파 플라즈마와 HiPIMS를 이용해 특별한 구조의 알루미늄 스칸듐 질화물 박막을 만들었습니다. 센서나 광학소자에 쓸 수 있습니다.
특별한 각도로 증착한 알루미늄 질화물의 결정성을 HiPIMS로 개선했습니다. 더 좋은 품질의 광학·센서 소자를 만들 수 있습니다.
이극 HiPIMS에서 이온의 선택적 가속을 연구했습니다. 산화물 박막 성장 메커니즘을 이해하기 위한 기초 연구입니다.
HiPIMS 공정에서 고도로 여기된 플라즈마를 이용하여 p형 산화제1구리 박막 트랜지스터의 성능을 개선했습니다.
구리 산화물 박막을 스퍼터링으로 만들 때 조건을 바꿔서 n형 또는 p형 반도체로 만들 수 있게 했습니다. 이는 전자소자에 중요합니다.
고에너지 펄스형 마그네트론 스퍼터링을 사용하여 외부 가열 없이 5원소 고엔트로피 합금 박막을 에피택시 성장시켰습니다.
고엔트로피 합금(여러 원소가 거의 같은 비율로 섞인 합금) 박막을 고전력 펄스 스퍼터링으로 만들었습니다. 기판에 가하는 음전하 전압을 바꾸면 박막 특성이 달라집니다.
3-타겟 고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 (TiSiAlCrV)N 박막을 만들고 기판 바이어스의 영향을 연구했습니다.
초록이 제공되지 않았으나 제목에서 DC 자기로 스퍼터링, HiPIMS, 그리고 하이브리드 방식으로 증착한 TiAlTaN 박막의 구조 및 기계적 특성을 비교한 연구로 보입니다.
HiPIMS로 만든 TiAlCN 코팅의 구조와 마찰 특성을 탄소 함량과 열처리 온도에 따라 연구했습니다. 최적 조건을 찾아 코팅 성능을 개선했습니다.
HiPIMS로 만든 다층 코팅의 구배 구조와 변조 주기가 미세구조와 성능에 미치는 영향을 연구했습니다. 최적화된 층 구조가 코팅의 기계적·화학적 성능을 향상시킵니다.
물 전해 장치의 양성자 교환막을 보호하기 위해 HiPIMS 기술으로 티타늄 아산화물 코팅을 제작했습니다. 이는 전기화학 장치의 수명을 연장할 수 있습니다.
HiPIMS로 제작한 TiAlSiN 박막에서 규소 함유량을 변화시켜 미세구조와 기계적 특성의 변화를 조사했습니다.
5원소 고엔트로피 합금에 Si와 B를 더한 코팅을 DCMS와 HiPIMS로 증착하여 구조와 성질을 비교했습니다. 고엔트로피 합금은 극한의 조건에서 우수한 내구성을 제공합니다.
HiPIMS를 이용하여 850°C의 낮은 온도에서 Ti3SiC2 MAX 상 코팅을 쉽게 만들 수 있는 방법을 개발했습니다. 기존 고온 공정의 비용과 에너지를 크게 줄일 수 있습니다.
AlCrSiN 코팅을 HiPIMS로 만들 때 인가 전압과 층 구조를 바꾸면서 코팅의 미세구조, 기계적 성질, 접착성이 어떻게 달라지는지 연구했습니다. 이는 내마모·내부식 코팅 성능을 향상시키는 데 중요합니다.
HiPIMS로 만든 산화크롬 코팅의 열안정성과 마찰 특성을 펄스폭으로 조절했습니다. 고온 환경에서 견디는 코팅을 만들 수 있습니다.
산업용 스퍼터링 시스템에서 여러 층 구조의 코팅을 만들었습니다. 실리콘을 넣으면 박막의 미세구조와 기계적 성질이 어떻게 변하는지 비교했습니다.
고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 (TiZrNbSiMo)1-xNx 고엔트로피 합금 코팅을 제조했습니다. 질소 첨가가 코팅의 물성에 미치는 영향을 조사했습니다.
고전력 임펄스 자기 스퍼터링으로 W-Ti-B 박막을 만들 때 티타늄 함량과 공정 조건이 미세구조와 기계적 특성에 미치는 영향을 조사했습니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 만든 Si-DLC 박막의 미세구조와 마찰 특성을 전력 변화에 따라 조사했습니다. 내마모 코팅 소재로 활용 가능합니다.
HiPIMS와 MF 기술을 결합하여 TiN 코팅을 제조하고, 타겟 중독 비율과 펄스 시간 비율의 영향을 조사합니다.
HiPIMS 방식으로 증착한 이산화티타늄(TiO2)이 긴 거리에서 더 나은 광촉매 성능을 보입니다. 이는 환경 정화와 에너지 응용에 유용할 수 있습니다.
저온에서 HiPIMS를 이용해 결정질 TiNi 박막을 직접 증착했습니다. 형상기억 특성을 갖는 박막의 제조가 가능해집니다.
에너지가 높은 이온을 이용하여 HiPIMS로 비정질 및 결정질 텅스텐-질소 박막을 성장시키는 기술을 연구했습니다.
DCMS와 HiPIMS 기술을 사용하여 화학양론비가 초과하거나 부족한 TiB2 박막을 제작하고 미세구조와 기계적 성질을 비교했습니다.
DLC 박막에 포함된 수소의 양을 달리하면서 만들어서 기계적 성질이 어떻게 바뀌는지 연구했습니다. 수소 함유량이 코팅의 경도와 탄력성에 영향을 줍니다.
HiPIMS로 증착한 MoN-Cu 코팅에서 Cu 함량에 따른 기계적 성질과 마모 특성 변화를 연구했습니다.
고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 Au-Ta 합금 박막을 제조했습니다. 성장률과 동적 기판 기울임이 박막 특성에 미치는 영향을 조사했습니다.
타이타늄, 알루미늄, 규소, 질소 코팅의 침식 성능을 HIPIMS로 연구했습니다.
HIPIMS와 직류 마그네트론 스퍼터링으로 만든 질화하프늄 박막의 경도, 응력, 표면에너지를 비교 분석했습니다.
반응형 고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링(R-HiPIMS)에서 폐루프 피드백을 이용해 수소화 비정질 탄소 박막 내의 티타늄 함량을 정밀하게 조절할 수 있습니다. 이를 통해 금속 티타늄에서 탄화티타늄을 거쳐 비정질 탄소로의 점진적 변화를 제어할 수 있습니다.
HiPIMS에서 펄스 주파수를 100~900Hz로 조정하여 AZO 투명 전도막을 만들었습니다. 700Hz에서 최고의 광학 및 전기적 특성을 보여 디스플레이와 태양전지에 사용될 수 있습니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 5원소 고엔트로피 나이트라이드 코팅을 만들고, 피크 전류 최적화로 경도 30GPa와 우수한 내마모성을 달성했습니다.
고전력 펄스형 마그네트론 스퍼터링의 펄스 폭 제어로 산화 텅스텐의 화학량론을 조정하여 광색성 특성을 최적화했습니다. 스마트 윈도우와 착용형 디스플레이 응용이 가능합니다.
고전력 펄스 자기 스퍼터링으로 TiN 코팅을 만들었습니다. 질소 가스 유량 변화에 따라 미세구조와 기계 특성이 변하며, 매우 높은 경도와 우수한 접착력을 보입니다.
호상 증착법으로 Cu를 도핑한 ZrCuN 코팅을 제조했습니다. Cu 첨가로 마찰 성능이 크게 향상되고 마모율이 78.8% 감소했습니다.
세 가지 마그네트론 스퍼터링 기법으로 비정질 탄소층을 제조하고 sp3/sp2 비율을 조절하는 방법을 연구했습니다. 고전력 기법이 가장 높은 sp3 함량(50%)을 달성하여 기계적, 광학적 특성을 개선했습니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링(HiPIMS) 기술로 매우 단단하고 내마모성이 우수한 질화물 코팅을 만드는 방법을 상세히 리뷰했습니다. 하이브리드 HiPIMS와 같은 개선된 기술들도 소개합니다.
HiPIMS로 텅스텐-카본 필름을 여러 성분비로 증착하여 마모 특성을 테스트했습니다. W2C 단일상 필름에서 최적의 마모 저항성을 보였으며 최대 경도는 35 GPa에 도달했습니다.
고전력 펄스 스퍼터링으로 질화 니오븀과 탄소의 다층 코팅을 만들어 연료전지의 금속판에 사용하면 부식 저항성과 전도성이 우수합니다.
플라즈마 질화와 HiPIMS를 결합한 새로운 공정으로 초경(텅스텐카바이드) 절삭공구에 AlCrN 경질 코팅을 입혔습니다. 낮은 온도와 짧은 시간으로 표면 경도와 내마모성이 크게 향상되어 상용화 가능성이 높습니다.
HiPIMS 공정으로 SiO2 박막을 증착할 때 공정 특성과 파형을 분석했습니다. 반응성 스퍼터링의 메커니즘을 이해하는 데 도움이 됩니다.
AlTiN 코팅을 HiPIMS로 만들 때 펄스 설정을 바꿔가며 경도와 강도를 높였습니다. 절삭공구와 금형의 수명을 크게 연장할 수 있습니다.
HiPIMS와 PDCMS를 합친 방식으로 매우 단단한 TiAlSiCN 코팅을 만들었습니다. 마찰을 줄이고 마모에 강해 극한 환경 부품에 아주 좋습니다.
높은 전력의 펄스 자기 스퍼터링으로 TiN 코팅을 만들어 마찰과 마모를 연구했습니다. 전력을 높이면 코팅의 결정 구조가 변하고 더 단단해지며 균열에 강해집니다. 이 코팅은 9.4N의 무게까지 견딜 수 있어 내구성이 좋습니다.
고출력 펄스 자기 스퍼터링으로 만든 Cr/CrN 다층 코팅이 고온 수증기 부식에 강한 특성을 보였습니다. 다층 구조가 미세한 기둥 결정을 형성하여 기계적 성질과 부식 저항성을 향상시킵니다.
크롬과 질소로 만든 코팅을 여러 층으로 쌓아서 녹이 슬지 않게 만들었습니다. 아래층이 위층의 작은 구멍을 막아서 더 효과적으로 부식을 방지합니다.
고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 만든 AlTiN 코팅의 마모 특성을 연구했습니다. 플라즈마 공정 조건이 코팅의 내구성에 미치는 영향을 알아냈습니다.
고전력 펄스 이온 스퍼터링으로 DLC 박막을 만들 때 가스 종류와 자기장 세기가 기계적 성질과 마모 성능에 미치는 영향을 연구했습니다.
고전력 펄스형 스퍼터링으로 높은 밀도의 질소 플라즈마를 만들어 질화 티타늄 박막을 제조했습니다. 플라즈마 밀도, 이온 에너지 등 상세한 방전 특성을 측정하고 분석했습니다.
자기 스퍼터링으로 만든 나노구조 열차단 코팅(TBC)은 종래 방법보다 밀도와 미세구조 제어가 우수하고, 열 절연성과 산화 저항성이 뛰어납니다. 터빈 부품 보호에 필수적입니다.
양극성 고전력 펄스 자성 스퍼터링으로 열 전도도가 높은 AlN 박막을 빠르게 증착하는 방법을 개발했습니다. 광학 소자에 적용될 수 있습니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 다이아몬드 같은 탄소 코팅을 할 때 펄스 간격의 영향을 연구했습니다.
HiPIMS로 증착 에너지와 C2H2 도핑을 조절하여 경질 ta-C 코팅을 제조했습니다. 경도가 높은 코팅을 얻을 수 있습니다.
질소를 넣은 DLC 박막을 DCMS와 HiPIMS로 만들어서 구조, 전기 저항, 광학 성질을 비교했습니다. 박막의 기초 물성과 증착 방법의 영향을 연구합니다.
고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링(HiPIMS)과 DC 스퍼터링으로 증착한 질화 나이오븀 박막의 초전도 특성을 비교 연구했습니다. HiPIMS 방법이 더 높은 임계온도와 우수한 결정성을 달성할 수 있음을 보여줍니다.
컴퓨터 시뮬레이션으로 일반 스퍼터링과 고출력 펄스 스퍼터링의 박막 성장을 연구했습니다. 이온 양이 박막의 결정 구조에 영향을 미칩니다.
고출력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 의료용 CoCrMo 합금을 질화 처리하여 생체 적합성과 내마모성을 높였습니다. 인공뼈나 임플란트 코팅에 활용됩니다.
고출력 임펄스 스퍼터링으로 구리 박막을 만들 때 기판으로 흐르는 에너지의 양을 측정했습니다. 스퍼터링 공정의 기초 연구입니다.
HiPIMS로 실온에서 TiO2 나노결정 박막을 만들어 유연 소자에 적용할 수 있게 했습니다. 압력과 산소 흐름을 조절하여 아나타제-루틸 상 비율을 제어했습니다. 태양전지와 광전기 물 분해 등에 활용 가능합니다.
고전력 펄스형 마그네트론 스퍼터링에서 피크 전류와 펄스 지속시간이 이온-원자 비율에 미치는 영향을 연구했습니다. 스퍼터링 공정 최적화에 중요합니다.
양극 HiPIMS를 사용하여 튜브 내부에 초경질 크롬 박막을 빠르게 증착하는 기술을 개발했습니다. 짧은 타겟-기판 거리를 활용하여 증착 속도를 크게 향상시켰습니다.
단펄스 HiPIMS에서 피크 방전 전류가 기판에 도달하는 이온 전류 밀도에 미치는 영향을 연구했습니다. 공정 최적화를 위한 기초 데이터를 제공합니다.
TiAlN 코팅에 역방향 양극 HiPIMS 펄스를 적용하여 미세구조와 기계적 특성을 개선했습니다. 새로운 펄스 기술이 코팅 품질을 향상시킵니다.
HiPIMS와 DCMS로 크로뮴 코팅을 만들 때 바이어스 전압을 조절하여 결정 방향과 박막 성질을 제어하는 방법을 연구했습니다.
크로뮴과 다이아몬드 같은 탄소를 반응성 고전력 펄스 스퍼터링으로 섞어서 마모와 마찰에 강한 박막을 만들었습니다. 엔진이나 기계 부품의 내구성 향상에 유용합니다.
HIPIMS로 증착한 (MoZrHfTaNb)-Si-B 코팅의 산화 저항과 열 안정성을 조사했습니다. 아르곤 압력 변화의 영향을 분석했습니다.
5가지 금속이 섞인 고엔트로피 합금 박막을 만들었습니다. 펄스 폭을 조절하면 박막의 구조와 성질이 어떻게 변하는지 연구했습니다.
여러 층이 점진적으로 두께가 변하는 다층 코팅을 만들었습니다. 기계적 성질과 마찰 저항성을 평가했습니다.
이 논문은 이트륨 산화수소화물이라는 특수한 물질의 얇은 막을 만드는 두 가지 스퍼터링 방법(HiPIMS와 펄스-DC)을 비교한 연구입니다. 이 물질은 빛을 쬐면 색이 변하는 신기한 성질(광변색성)을 가지고 있는데, 어떻게 막을 만드느냐에 따라 그 성질이 달라진다는 것을 보여줍니다. 스마트 윈도우 같은 미래 기술에 활용될 수 있는 소재 연구입니다.
고출력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 만든 MoNx 코팅의 건식 마찰 성능을 다양한 온도에서 조사했습니다. MoO3 삼보층의 성장이 마찰 특성에 중요한 역할을 한다는 것을 발견했습니다.
직류 마그네트론 스퍼터링과 고출력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 만든 텅스텐 박막 센서를 비교했습니다. 펄스 방식이 더 밀도 높고 안정적인 막을 만듭니다.
중주파 펄스를 고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링에 결합하여 높은 p형 전도도를 가진 구리 질화물 박막을 만들었습니다.
HiPIMS 기술을 사용하여 TiN 박막을 만들 때 증착 온도와 기판 바이어스의 영향을 연구했습니다. 이 두 인자가 박막의 구조, 기계적 성질, 안정성과 접착력에 미치는 상승 효과를 분석했습니다.
HiPIMS 기술을 사용하여 규소와 티타늄이 도핑된 테트라헤드랄 비정질 탄소 코팅을 제작하고, 응력과 기계적 성질을 조절했습니다.
CrSiN 3원 코팅을 낮은 온도에서 MIS-HiPIMS로 증착하여 구조와 부식 특성을 개선했습니다. 이 방법은 온도에 민감한 기판에 내구성 코팅을 적용할 수 있게 합니다.
MIS-HiPIMS로 CrSiN 나노복합 세라믹 박막을 만들 때 동기화된 펄스 바이어스의 영향을 조사했습니다. 바이어스 조절로 박막의 미세구조와 성질을 제어할 수 있습니다.
HiPIMS 기술으로 만든 탄소 박막에서 플라즈마 이온화가 탄성률과 마찰 특성에 미치는 영향을 연구했습니다.
HiPIMS 플라즈마 이온화가 LaB6 박막의 구조와 전기화학 특성에 미치는 영향을 연구했습니다. 이는 전자 방출 특성 개선에 도움이 될 수 있습니다.
짧은 펄스 고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링(HiPIMS)으로 만든 TiAlN과 CrAlN 코팅은 매우 높은 경도와 내마모성을 보입니다. 이는 높은 이온화와 이온 에너지 때문입니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 투명 마이크로-LED 디스플레이용 ITO/Ag/ITO 박막을 만들었습니다.
AlCrN과 AlCrVYN 코팅을 여러 스퍼터링 방식으로 만들어 구조와 기계적 성질을 비교한 연구입니다. HiPIMS 방식이 코팅 품질을 어떻게 개선하는지 보여줍니다.
HiPIMS의 양의 펄스를 이용하여 티타늄 코팅과 플라스틱(PEEK) 사이의 접착력을 높이는 방법을 연구합니다. 원자 수준의 혼합층 없이 깨끗한 계면을 만들 수 있습니다.
일반 자기화 스퍼터링과 HiPIMS 공정으로 만든 전이금속 질화물 박막을 비교하는 연구입니다. 두 공정 방식의 특성 차이를 규명합니다.
HiPIMS로 IGZO 박막을 만들어 적외선 투과율, 저항률, 캐리어 이동도 등을 측정합니다. 최적의 공정 조건을 찾기 위해 HiPIMS 듀티 사이클과 산소 유량을 변화시킵니다.
구리와 몰리브덴의 나노미터 단위 다층 박막을 고전력 펄스 스퍼터링으로 3차원 복잡한 형태에 정밀하게 코팅하여 고에너지 입자가속기의 고주파 공동공진기를 보호합니다.
HiPIMS 방전에서 펄스 지속 시간이 플라즈마 특성에 미치는 영향을 조사하는 기초 연구입니다.
양방향 펄스 HiPIMS 기술에서 이중층 구조와 이온 에너지의 기본 특성을 연구했습니다. 더 나은 박막을 만들기 위한 기초 이론을 제공합니다.
HiPIMS 기술로 드릴에 TiAlSiN 코팅을 입혔을 때 기판의 미세구조가 코팅 성능에 미치는 영향을 연구했습니다. 미세한 탄화물 입자를 가진 기판이 코팅 박리를 덜 겪고 드릴링 성능을 40% 향상시켰습니다.
휘는 전자기기용 PET 기판 위에 HiPIMS로 투명 전극을 만들었습니다. 빛을 통과시키면서 전기를 잘 전달하는 성질을 최적화했습니다.
8가지 원소가 포함된 고엔트로피 복합 코팅을 만들었습니다. 붕소의 양을 바꾸면 기계적 성질과 내식성이 어떻게 변하는지 연구했습니다.
이중 음극 HiPIMS로 만든 TiZrN 박막이 높은 온도에서 마모에 얼마나 잘 견디는지 조사했습니다. 지르코늄을 많이 섞으면 높은 온도에서 산화되어 오히려 마모가 심해진다는 것을 발견했습니다.
강철 기판에 TiAlN 코팅을 더 잘 붙이기 위해 HiPIMS 크롬 폭격을 기존의 아르곤 전처리 대신 사용하는 방법을 연구했습니다.
고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 단일 Ti/Al 타겟에서 Ti1-xAlxN 코팅을 만들고 구조, 기계, 마모, 전기화학 특성을 연구했습니다.
고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 다층 CrAlN 박막을 만들어 전기화학 성질을 조사한 연구입니다. 이 박막은 부식 저항성과 내마모성이 뛰어납니다.
HiPIMS로 제조한 AlCrN 코팅의 미세구조와 기계적 성질을 진공 어닐링 온도 변화에 따라 연구했습니다.
튜브의 안쪽 표면에 HiPIMS로 TiAlN을 입히는데, 튜브 중심에 보조 음극을 놓으면 코팅 두께를 45% 더 늘릴 수 있다는 것을 발견했습니다.
DC 마그네트론 스퍼터링과 HiPIMS를 사용하여 한 단계에서 CIGS 태양전지 박막을 만들었습니다. 스퍼터링 전력이 증가할수록 결정 품질이 향상되고 표면 형태가 균일하고 치밀해집니다. 이는 효율성 높은 태양전지 제조 공정 개발에 기여합니다.
TiAlSiN 코팅을 HiPIMS로 H13 금형강에 증착하여 경도와 내마모성을 향상시켰습니다. 바이어스 전압, 온도, 두께 등의 공정 조건이 코팅의 기계적 성능에 영향을 미칩니다.
저온 HiPIMS 기술로 AlN 박막을 만들어 조밀한 구조와 좋은 기계적 성질을 얻는 방법을 연구했습니다.
반응성 HiPIMS로 TiO2를 증착할 때, 광학과 전기 측정을 함께 사용하여 공정 변화를 감시했습니다. 타겟 침식과 기판 온도가 증착률과 광학 발광에 영향을 미치는 것을 확인했습니다.
디스플레이 화면에 쓰는 IGZO 막을 HIPIMS와 일반 라디오파 방법으로 만들어 비교했습니다. HIPIMS 방법으로 만든 막은 더 깨끗하고 밀도가 높지만, 일반 방법의 막이 전기적 성능이 더 좋습니다.
저밀도 HiPIMS로 Zircaloy-4 합금 위에 초두께의 조밀한 크롬 코팅을 증착했습니다. 고온 산화/부식 환경에서 보호막 역할을 합니다.
양극성 HiPIMS 공정에서 3000개 이상의 서로 다른 증착 조건을 자동으로 분석하는 머신러닝 기법을 개발했습니다. 이를 통해 증착 속도와 공정 변수 간의 관계를 체계적으로 이해할 수 있습니다.
절연 기판에 박막을 증착하기 위해 동기화된 부유 전위 HiPIMS 기술을 개발했습니다. 이 방법으로 100°C의 낮은 온도에서 고품질 AlScN 박막을 만들 수 있으며, 매우 낮은 에너지로 원하는 금속 이온만 가속시킵니다.
HiPIMS 기술을 사용하여 동적 가스 조절을 통해 a-C:Ti/a-C:Ti:N 나노라미네이트 박막을 증착했습니다. 이 박막은 티타늄 분리판(bipolar plates)의 성능을 향상시킵니다.
Mo-Y-Zr-Si-B 코팅을 DCMS와 HIPIMS로 증착했을 때, HIPIMS 방법이 결정립 크기를 줄이고 1000°C에서 산화 저항성을 1.6~4.5배 향상시켰습니다. 고온 환경에서 사용되는 내산화 코팅으로 유용합니다.
HiPIMS와 PECVD 하이브리드 기술을 사용하여 Ti-6Al-4V 합금 위에 DLC 코팅을 증착하고, HF1 등급의 우수한 접착력을 달성했습니다.
HiPIMS를 이용하여 조밀한 구조의 WS2 고체 윤활 코팅을 제조했습니다. 이는 마찰을 줄이고 내마모성을 향상시킵니다.
HiPIMS 기술을 이용해 TiZrNbTaFeCx 고엔트로피 합금 카바이드 코팅을 만들었습니다. 탄소 함량에 따라 미세구조, 기계적 성질, 부식 저항성이 어떻게 변하는지 연구했습니다. 이 연구는 내마모·내부식 코팅 개발에 도움이 됩니다.
DCMS, HiPIMS, S3p 증착 기술을 비교하여 고급 이중 스테인리스강(super DSS2507)의 건식 절삭 성능을 분석했습니다.
핵융합 환경을 모의하기 위해 He/H2 및 He/D2 환경에서 W 동시증착 시의 HiPIMS 플라즈마 특성을 분석했습니다.
HiPIMS를 사용하여 색상 없는 폴리이미드(PI) 기판에 구리(Cu) 박막을 증착하고, 최적화된 전력과 열처리로 접착력을 향상시켜 유연한 전자소자 응용을 실현했습니다.
크롬을 도핑한 다이아몬드 같은 탄소(DLC-Cr) 나노복합체 박막을 HiPIMS로 증착하여, 최적의 크롬 도핑량에서 경도, 마모 저항성, 젖음성이 모두 우수한 특성을 얻었습니다.
HiPIMS와 DCMS를 결합하여 WCTiN 코팅을 만들고, 기판 극성 전압 −60V에서 최고의 내마모 성능(경도 29 GPa)을 얻었습니다. 절삭공구와 브레이크 디스크 같은 부품에 적용 가능합니다.
고엔트로피 다중원소 보라이드 박막을 쌍극성 HiPIMS로 제조하여 경도 30 GPa 이상을 달성했습니다. 펄스 플라즈마로 결정구조를 제어하여 경도를 크게 향상시켰습니다.
ZrN 코팅을 균일하게 만든 것과 질소 농도를 점차 변화시켜 만든 것을 비교했습니다. 질소 기울기 구조가 경도와 물을 튕기는 성질을 동시에 높여서 의료용·방오 코팅에 유리합니다.
산화니켈 박막을 DCMS와 HiPIMS로 만들어 페로브스카이트 태양전지의 성능을 비교했습니다. 더 좋은 기술로 태양전지 효율을 높일 수 있습니다.
HiPIMS로 만든 산화하프늄 박막의 유전 특성을 조절해 박막 트랜지스터 성능을 높였습니다. 디스플레이와 반도체 소자에 쓸 수 있습니다.
구리 산화물 박막을 스퍼터링할 때 가스 압력을 바꾸면 다른 결정 구조가 만들어집니다. 이는 박막의 성질을 조절하는 중요한 방법입니다.
반응성 HiPIMS로 질소가 도핑된 산화질화 지르코늄 박막을 만들어 광촉매 성능을 향상시켰습니다. 질소 함량을 조절하면 띠넓이를 3.43eV에서 2.20eV로 줄여 가시광을 효율적으로 흡수할 수 있습니다. 이는 물 분해 광촉매로 응용 가능합니다.
6가지 금속이 포함된 고엔트로피 질화물 코팅을 만들었습니다. 질소와 아르곤 가스의 비율을 바꾸면 박막의 구조, 기계적 성질, 마찰 거동이 어떻게 달라지는지 연구했습니다.
수소를 포함하거나 포함하지 않은 DLC 박막을 HiPIMS로 만들어서 고온에서 마찰 특성을 비교했습니다. DLC는 마모에 강한 특수 코팅 소재입니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 MoxN 코팅을 만들고 피크 전류가 미세구조, 기계적 성질, 마모 특성에 미치는 영향을 연구했습니다.
DCMS와 HiPIMS 기술을 비교하여 ZnO 나노로드 위에 Au 나노입자를 장식한 항균 코팅을 만들었습니다. 박테리아와 곰팡이에 대해 높은 항균 활성을 보였고 세포 독성도 평가했습니다. 항생제 내성 박테리아 대응 항균 재료로 활용 가능합니다.
고성능 임펄스 마그네트론 스퍼터링 기술을 개선했습니다. 전기를 보내는 방식을 새롭게 해서 더 촘촘하고 매끄러운 코팅을 만들 수 있게 했습니다.
질화갈륨 박막으로 빛이 통과하는 공명기를 만들었습니다. 실온에서 고품질로 빠르게 만들 수 있어 광통신과 양자 기술에 써도 됩니다.
고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링 매개변수가 AlN 박막의 성장과 조성에 미치는 영향을 통계적으로 분석했습니다.
고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링과 키크 기법을 조합하여 고 열전도도의 1 마이크론 두께 AlN을 제조했습니다.
알루미늄-스칸듐-질소 막을 HIPIMS로 만들어 다음 세대 메모리 소자에 사용할 수 있게 했습니다. 이 막은 전기적 성질이 우수하고 낮은 온도에서도 결정성이 좋으며 안정적입니다. 컴퓨터 메모리 칩의 핵심 재료로 쓰일 수 있습니다.
양극과 음극 펄스를 함께 사용하는 HIPIMS 방법으로 산화물 코팅을 만들 때 입자 흐름과 에너지 변화를 측정했습니다. 이 방법은 기존 방법보다 더 많은 금속 이온을 보낼 수 있습니다.
HPPMS 공정에서 플라즈마 방출 분광(OES) 데이터를 인공신경망으로 예측하는 방법을 개발했습니다. 코팅 장비 파라미터로부터 플라즈마 조성을 예측하여 공정 개발 시간을 단축할 수 있습니다.
HiPIMS를 이용하여 처음으로 나노 구조 퍼지 텅스텐을 성장시켰습니다. 기판 온도와 이온 에너지를 조절하면 나노 구조의 두께를 크게 제어할 수 있습니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 실리콘 기판 위에 GaN 파동 공명기를 만들었습니다. 높은 품질인수(4×10⁴)를 달성해서 CMOS 호환 공정으로도 우수한 GaN 광학 소자 제작이 가능함을 보였습니다.
마그네트론 스퍼터링으로 제조한 고엔트로피 박막의 산화 저항성을 개선하는 방법과 절삭공구, 확산 배리어 등 산업 응용을 소개합니다. 질소, 실리콘 같은 합금 원소가 산화 저항성을 향상시키는 메커니즘을 설명합니다.
고출력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 육방정 질화붕소 박막을 성공적으로 합성했습니다. 증착 온도, 시간, 질소 흐름량에 따라 박막의 결정성과 순도가 달라지는 것을 확인했습니다.
고속 회전 기계의 링에 크로뭄 코팅을 고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 만들었습니다. 전기도금 대신 환경친화적인 방법으로 내마모성과 부착력이 우수한 코팅을 얻었습니다.
고출력 펄스 자성 스퍼터링으로 만든 Cu 도핑 크롬질화물 필름이 항균성과 바이러스 제거 기능을 가집니다. 의료 기기 코팅으로 활용 가능합니다.
크롬 질화물 코팅을 스퍼터링으로 스테인리스강에 입혔을 때 연료전지 환경에서 부식에 잘 견디는 성질을 보였습니다. 고출력 임펄스 스퍼터링 기술이 사용되었습니다.
전기방전과 스퍼터링을 결합하여 내열성 세라믹 코팅을 만들었습니다. 여러 층으로 구성된 코팅은 고온에서 우수한 경도와 보호 특성을 가집니다. 나이오븨 기재 위에 형성되어 부품의 수명을 크게 연장시킬 수 있습니다.
고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 이산화티타늄 코팅을 만들고, 추가 전극을 사용하여 다공성을 조절했습니다. 열처리를 통해 결정질 아나타제 구조를 얻었습니다.
타이타늄, 알루미늄, 탄탈럼과 질소를 섞은 코팅을 HIPIMS로 만들었습니다. 강한 이온 폭격으로 더 조밀하고 균일한 구조를 만들어 기계적 성질이 크게 향상되었습니다.
HiPIMS로 Ar+Kr 혼합 가스를 사용하여 WC 코팅을 증착하고, 주파수 증가에 따른 두께와 기계적·마찰학적 특성 변화를 조사했습니다.
HiPIMS로 WCrTi 중엔트로피 합금 코팅을 만들어 결정구조를 제어했습니다. 에너지 이온 충격으로 미세구조를 조절하여 극한 환경용 코팅을 개발했습니다.
HiPIMS로 강철 위에 c-BN 박막을 입힐 때, 펄스 길이와 목표 전압을 높이면 접착력은 약해지지만 마찰이 줄어든다는 것을 발견했습니다.
HiPIMS로 만든 산화크롬 코팅이 높은 온도에서 우수한 마모 저항성을 보입니다. 이는 고온 환경에서 사용되는 공구와 기계 부품에 매우 유용합니다.
DCMS와 HIPIMS로 Ti-Al-C 나노구조 코팅을 제조 비교했습니다. HIPIMS는 우수한 마모 저항과 1000°C 이상의 열 안정성을 제공합니다.
HiPIMS로 Ti-Al-Y-N과 Ti-Al-Ta-N 코팅을 증착하고, 바이어스 전압의 영향을 조사하여 기계적 및 마모 특성을 최적화했습니다.
HiPIMS로 특수한 MAX 재료 코팅을 700도 저온에서 만들었습니다. 더 저렴하고 효율적인 고기능 코팅 기술입니다.
높은 정수압 환경에서 HiPIMS 기술로 Cr/GLC 다층 코팅을 만들었습니다. 미세구조 변화와 갈바닉 부식 특성을 분석했습니다. 극한 환경에서 사용할 수 있는 내부식 코팅 개발에 중요합니다.
HiPIMS로 증착한 Cr/GLC 다층 코팅의 미세구조 진화와 갈바닉 부식 특성을 연구했습니다. 고압 환경에서 내부식성이 향상됩니다.
DCMS와 m-HiPIMS로 만든 텅스텐 박막의 중수소 방출 및 보유 특성을 연구했습니다. 질소 첨가로 중수소 보유가 두 자리수 증가했으며, 핵융합로 삼중수소 보유 문제 해결에 중요합니다.
이 논문은 질소 가스를 이용해 특수한 방법(HIPIMS)으로 알루미늄-티타늄-탄소-질소 코팅막을 만드는 연구입니다. 질소의 양을 조절하면 코팅막의 단단함과 마모 저항성이 달라지는데, 질소량이 10~15ml/min일 때 가장 좋은 성능을 보였습니다. 이 코팅은 공구를 더 튼튼하고 오래 쓸 수 있게 도와줍니다.
고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링에서 기판 극성이 DLC 코팅의 sp3 결합 함량에 영향을 미칩니다.
HiPIMS로 증착한 Nb 박막의 바이어스 전압에 따른 미세구조와 초전도 특성 변화를 연구했습니다.
HiPIMS로 제작한 산화바나듐 박막에서 화학양론의 변화가 구조와 전기-광학 특성에 미치는 영향을 조사했습니다.
Ti-Al-C 코팅을 DCMS와 HiPIMS 방법으로 증착할 때 에너지 매개변수가 구조와 성질에 미치는 영향을 연구했습니다. 두 방법의 효과를 비교하여 최적의 코팅 조건을 찾았습니다.
Mo-Y-Zr-Si-B 5원 합금 코팅을 몰리브덴에 DCMS와 HiPIMS로 증착하여 구조, 기계적 성질, 내마모성과 내열성을 비교했습니다.
CFUBMS-HiPIMS 방법으로 LaB6 도핑된 TiBCN 코팅을 증착하고 LaB6 목표 전류가 기계적 및 마찰학적 성질에 미치는 영향을 연구했습니다.
HiPIMS로 제어한 TiN 박막의 결정 방향성이 기계적 및 마찰 특성에 미치는 영향을 연구했습니다.
WO3 나노막대 박막을 HiPIMS와 GLAD 기법으로 만들면서 산소와 아르곤 비율을 바꿔서 색이 변하는 전기발색 성질을 개선했습니다.
R-HiPIMS와 GLAD 기술로 플라즈모닉 특성을 가진 TiN 나노로드 박막을 만들었습니다.
고출력 임펄스 마그네트론 스퍼터링 중 선택적 기판 가열로 Cu3N 박막을 합성했습니다. 자외선 광검출기 성능 향상을 목표로 합니다.
이 논문은 마그네슘과 실리콘이 섞인 특수한 재료(Mg2Si)로 아주 얇은 막을 만드는 방법에 대한 연구입니다. 고출력 임펄스 마그네트론이라는 특별한 스퍼터링 기술과 나누어진 타겟을 사용해서 나노 크기의 결정을 만듭니다. 이런 재료는 열을 전기로 바꾸는 소자 등에 활용될 수 있습니다.
고강력 펄스 스퍼터링으로 마그네슘 실리사이드 박막을 처음 만들어본 예비 연구입니다.
HiPIMS로 제조한 탄소 박막에 네온을 첨가하여 이온화를 증가시키고 결합, 전기적, 마찰 특성을 개선했습니다.
고출력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 AlCrN 코팅을 만들 때 질소 흐름량이 결정 구조와 경도에 미치는 영향을 연구했습니다. 같은 질소 함량이어도 다른 구조가 형성되며, 이는 원자의 확산 제한이 원인입니다.
고전력 임펄스 마그네트론 스퍼터링으로 알루미늄 3차원 구조 위에 나노미터 주기의 Cu/Mo 다층막을 만들었습니다. 이 코팅은 입자 가속기의 RF 구조의 성능과 수명을 크게 향상시킵니다.
고출력 펄스 자기장 스퍼터링으로 AlCrNbSiTiN 고엔트로피 질화물 박막을 만들었습니다. 듀티 사이클과 기판 바이어스 조건이 미세구조와 특성에 미치는 영향을 연구했습니다.
티탄-알루미늄-질화물 코팅에 크롬, 몰리브덴, 텅스텐을 첨가하여 경도를 높였습니다. 하이브리드 스퍼터링 방식으로 우수한 내마모성을 얻었습니다.
HiPIMS로 만든 금 초박막을 바이오센서로 사용하여 코로나바이러스 단백질을 감지할 수 있음을 보여줍니다. 표면 플라즈몬 공명 현상을 이용한 빠르고 민감한 검사 기술입니다.
역방향 양성 HiPIMS 펄스를 사용하여 경질 코팅의 미세구조와 기계적 성질을 개선하는 연구입니다. 새로운 펄스 방식이 코팅의 품질을 향상시킬 수 있음을 보여줍니다.
HiPIMS로 만든 다층 코팅을 세라믹 절삭공구에 적용하여 인코넬 가공 시 내마모성을 향상시킵니다. 기판 준비와 코팅 조성이 공구 수명에 미치는 영향을 연구했습니다.
ITO 박막을 비반응성 DC 자기장 스퍼터링과 C-HiPIMS 방법으로 증착하여 광학 및 전기적 특성을 향상시킨 연구입니다. 디스플레이 등에 사용되는 투명 전도 박막의 품질을 개선합니다.
HiPIMS로 만든 Cr-Zr-Nb(N) 박막의 미세구조와 마찰-기계 성질을 연구하여, 단단하면서도 질긴 코팅을 만들 수 있음을 보였습니다.
니오븀과 티타늄 질화물 박막은 양자컴퓨터에 쓰이는 초전도체입니다. 박막의 결함이 적을수록 초전도 성능이 더 좋다는 것을 처음 증명했습니다.
HiPIMS로 만든 산화타이타늄의 성분 비율 변화가 광학 및 전기색칠 특성에 미치는 영향을 연구했습니다. 전기색칠 소자 응용에 중요합니다.
HiPIMS 기술로 Ta/TaN 다층 코팅을 공구강에 증착하고, 질소 가스 유량에 따른 경도와 마찰 특성을 평가했습니다. 내마모 응용을 목표로 하는 다층 코팅 연구입니다.
크로뮴-이트륨-질소 다층 코팅을 HiPIMS로 제조하여 코팅 구조 변화에 따른 부식 및 마찰 특성을 연구했습니다. 코팅 설계를 통해 내마모 및 내부식 성능을 향상시킬 수 있음을 보여줍니다.
고주파 고전력 펄스 자기 스퍼터링에서 방전 전류의 꼬리 시간이 다이아몬드 같은 카본 박막 성질에 미치는 영향을 연구했습니다. 박막 품질 제어 방법을 제시합니다.
단일 및 이중 단계 고전력 펄스 마그네트론 스퍼터링으로 제조한 주석 코팅의 미세구조와 특성을 비교했습니다. 내마모 코팅 개발에 유용합니다.
HiPIMS로 동기화된 펄스 바이어스를 적용하여 CrSiN 나노복합 박막을 증착하고 미세구조와 특성을 제어합니다.
HiPIMS의 피크 전류를 달리하여 MnCo2 코팅을 만들고 800°C에서 고온 산화 저항을 연구했습니다. 100A 코팅이 최고의 산화 저항을 보였습니다.
HiPIMS로 마그네슘 합금 기판 위에 크롬 질화물(CrN) 코팅을 증착할 때 온도와 Mischmetal 첨가의 영향을 연구했습니다. 미세구조와 내부식성을 개선했습니다.