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이번 주 주간호 · 2026-09-21 ~ 2026-09-27 수집분 · 논문 6건

저온·계면 제어형 ALD가 고유전율 게이트 스택과 2D 소재 성장으로 동시에 확장되는 한 주

ALD는 고유전율 게이트 스택 최적화와 에너지·2D 소재 응용 확장이라는 두 축을 동시에 심화시키고 있다.

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6건 (2026-09-21 ~ 2026-09-27)

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