몰리브덴 전구체 매출 전년比 약 2배 성장, NAND 적층수 증가가 주요 동력. 시장은 사실상 2강 구도.
2분기 매출 €115.1m 회복, 수주 81% 급증. 성장은 광전자(MOCVD·레이저) 견인, ALD 직접 언급은 제한적.
세계 최대 반도체 제조사와 장기 공급계약, 애리조나 ASU 2기 신설(10억달러), 대만 자회사 8억달러 투자.
imec·삼성전자·Lam Research·KU Leuven 공동 2T0C 3D DRAM 셀 설계, IGZO 채널을 ALD로 균일 성막.
1.4nm 노드에서 ALD·Epi 시장점유율 확대, Mo(몰리브덴) ALD 신규 수주 확보, DRAM 고객사 ALD/Epi 채택 확대.
삼성전자·imec·KU Leuven·Lam Research 공동으로 IGZO 산화물 채널 기반 모놀리식 3D D램 연구 진행.
IGZO 채널 적용 시 누설전류 감소 효과, 삼성 D램 점유율 1위 수성과 중장기 구조전환 전략 병행 설명.
삼성 투자 포함 시리즈D 및 PIPE 2,300만달러 추가 확보, 나스닥 상장 앞두고 자금 조달 완료.
3D 적층 칩 스케일링을 위한 신규 증착·선택적 식각 장비 발표.
펜실베이니아 본사에서 ALD 장비 생산 확대 위해 1,000만달러 투자, 39개 신규 일자리 창출.
Visionox가 ALD 전산화물 양산 솔루션 발표. 단일채널 이동도 50cm²/Vs, 이중채널 80cm²/Vs, 레이저어닐링 불필요.
SID2026 부스 리뷰. BOE는 Oxide 고이동도 기반 1000Hz 모니터 전시, Visionox는 ALD 산화물 양산방안 재확인.
말레이시아 주요 팹 대상 1000:1 고종횡비 ALD 코팅 기술 시연.
에어리퀴드솔루션즈코리아 대표, 특수가스 업계 경쟁기준이 품질·공급망 안정성·환경대응으로 이동 중이라고 발표.
반도체 배선공정용 특수가스 WF6 가격·물량 동반 상승, 중국 텅스텐 파우더 수출제한으로 공급부족 심화.
AI 시대 반도체·방산 배터리용 ALD 코팅 전문 Forge Nano, SPAC 합병으로 나스닥 상장 추진.
일본 히로시마에 2억유로 투자, 초고순도 N2/O2/Ar 생산시설 2개소 신설(2028년 말 가동).
삼성전자·SK하이닉스 선단공정에서 CVD 대비 ALD 비중 8:2까지 확대. 글로벌 ALD 시장 2025년 47억달러→2035년 132억달러 전망.
국내 유일 2차전지 전해질+반도체 공정용 특수가스 동시 제조사, 삼성전자·SK하이닉스 공급.
2nm 이하 GAA용 신제품 'Trillium ALD System' 공개, 10nm 간격 나노시트에 다층 금속 게이트를 옹스트롬 단위 정밀도로 증착.
DPT용/High-K/HCDS 전구체 등 반도체 미세화 핵심 소재 사업 소개, 2025년 매출 791억원(+7%).
300단 이상 낸드 및 3nm 이하 GAA 로직向 열식 ALD·PE-ALD 수요 증가 언급, 올해 매출 1조1천억 전망.
경기 음성 공장에서 텅스텐 대체 몰리브덴 전구체 대량생산 개시, 삼성전자·SK하이닉스 9세대 낸드 적용 검토.
고속·고종횡비(1000:1) 반도체용 ALD 코팅 기술 공개, 첨단 3D 구조 공정 대응.
주성엔지니어링이 세계 ALD 장비 시장 점유율 4위, SK하이닉스 HBM 제조용 핵심 ALD 장비 공급사로 부상.